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造成進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲高的原因有哪些

更新時(shí)間：2021-11-15

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　　進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。儀器具有自動(dòng)校準(zhǔn)氦峰，自動(dòng)調(diào)節(jié)零點(diǎn)，量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換，自動(dòng)數(shù)據(jù)處理，可外接打印機(jī)。整機(jī)由微機(jī)控制，菜單選擇功能，一個(gè)按鈕即可完成一次的全檢漏過(guò)程。

　　在使用過(guò)程中，檢漏儀的本底噪聲控制是很重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。今天景程生物與大家一起來(lái)了解下，哪些情況會(huì)導(dǎo)致檢漏儀本底噪聲較高。

　　檢漏儀的噪聲主要來(lái)源于電路噪聲和本底噪聲，目前設(shè)備電子線路和電子元件的改進(jìn)，使得電路噪聲已經(jīng)降得很低，因此，進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲成為影響設(shè)備性能的主要因素。而其本底噪聲的產(chǎn)生主要是由于本底峰的不穩(wěn)定造成的，主要形成的原因包括：

　　1、離子源中的發(fā)射電流、加速電壓以及分析器的電磁參數(shù)不穩(wěn)定。

　　2、真空油脂、橡膠材料、有機(jī)絕緣材料都可吸附和再釋放出氦氣，而電離規(guī)，特別是磁放電真空規(guī)對(duì)氦有記憶效應(yīng)，其表面污染時(shí)就更為嚴(yán)重。

　　3、抽氣系統(tǒng)中抽速不穩(wěn)定和氦的反擴(kuò)散。

　　4、檢漏儀中空氣的本底影響。

　　5、殘余氣體分子對(duì)離子的散射作用。

　　6、燈絲和其他電極受機(jī)械振動(dòng)引起的效應(yīng)。

　　因此，為盡量消除進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，需要針對(duì)性的采取措施，如減少采用有機(jī)材料，不用磁放電規(guī)，提高檢漏儀的工作真空度，保證穩(wěn)定抽速等等。另外檢漏時(shí)切勿將大量的氦氣通進(jìn)儀器，避免本底太大，難以清除。

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